產品關鍵詞：阿莫西林顆粒濕法研磨機，阿莫西林顆粒濕法高速分散機，阿莫西林顆粒研磨分散機，阿莫西林顆粒進口研磨機，安莫西林顆粒研磨分散機，安默西林顆粒分散機，德國進口高速分散機，14000轉醫藥混懸液高速分散機，在線式混懸液高速分散機

SGN阿莫西林顆粒濕法研磨分散機采用變頻調速，各種規格、運轉穩定有力，適合各種粘度；液壓、機械兩種升降形式，升降旋轉自如，適應各種位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作維護簡單；生產連續性強，對物料可進行快速分散和溶解，分散效果好，生產效率高，運轉平穩，安裝簡便。針對不同物料的粘度及處理量有不同的功率及型號。

阿莫西林是一種zui常用的半合成青霉素類廣譜β-內酰胺類抗生素，為一種白色粉末，半衰期約為61.3分鐘。在酸性條件下穩定，胃腸道吸收率達90%。阿莫西林殺菌作用強，穿透細胞膜的能力也強。是目前應用較為廣泛的口服半合成青霉素之一。

阿莫西林用以治療傷寒、其他沙門菌感染和傷寒帶菌者可獲得滿意療效。治療敏感細菌不產β內酰胺酶的菌株所致的尿路感染也獲得良好療效，對下尿路感染的患者和不產酶淋病奈瑟菌尿道炎、宮頸炎，口服單次劑量3g即可獲得滿意療效。肺炎鏈球菌、不產青霉素酶金葡菌、溶血性鏈球菌和不產β內酰胺酶的流感嗜血桿菌所致的耳、鼻、喉感染、呼吸道感染和皮膚軟組織感染等皆為適應癥。鉤端螺旋體病也可用阿莫西林。本品亦可用于敏感大腸埃希菌、奇異變形桿菌和糞腸球菌所致泌尿生zhi系統感染。本品與克拉霉素和蘭索拉唑聯合治療幽門螺桿菌感染有良好療效。

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕锪弦筮M行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）， SGN研磨分散機可以高速研磨、分散、乳化、均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。

GMD2000阿莫西林顆粒濕法研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

GMD2000為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的優勢：

更穩定 采用優化設計理念，將的技術與創新的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

GMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%