GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。
產品關鍵詞概述：沉淀活性二氧化硅研磨分散機，疏水活性白炭黑研磨分散機，高速研磨分散機，高剪切研磨分散，研磨均質一體機，分體式研磨分散機
沉淀（活性）二氧化硅=疏水（活性）白炭黑
產品特性：
疏水白碳黑是一種多孔性無定型二氧化硅，呈白色粉末狀，其初生粒徑為納米顆粒，zui細之產品如SH-107的zui終粒徑2～3um，它和橡膠、塑料、涂料混和后，能使產品具有各種良好的物理性能，它作為天然橡膠及人造橡膠淺色制品的良好填充劑，一方面減少橡膠的用量，降低成本，另一方面能提高橡膠制品的硬度，耐磨性，減少變形，增加耐油性；用于乳膠塑料皮革，輕質材料制品中，則易于脫膜和成型，減輕制品的重量；用于電線電纜中，能提高其絕緣性能；用于油漆油墨中，則是良好的增稠劑；用于涂料則具有耐高溫性能，因而本品被廣泛用于橡膠、塑料、制革、油漆、體育文化用品等行業。
（價格電議：葛 公司有樣機可供客戶實驗?。?/span>
應用領域：
疏水白炭黑具有*的表面活性，在某些橡膠制品中具有透明、半透明性質；特別適宜做淺色、艷色、透明、半透明橡膠制品。此外，可作為乳膠的隔離劑、油漆油墨的防沉劑、增稠劑、觸變劑，各種塑料薄膜的張口劑；農藥顆粒劑、分散劑；粘合劑材料和輕質材料制品以及牙膏磨料等，并可用于中高檔原子灰系列產品。
技術指標：
項 目 | 指 標 |
二氧化硅含量% ≥ | 99 |
白度 | 95 |
篩余物(45um)%≤ | 0.5 |
加熱減量% | 4.0-8.0 |
灼燒減量(1000℃)% ≤ | 5.0 |
PH值（10%水懸浮液） | 5.0-8.0 |
視比重（1000轉/分.20分鐘）(g/mL) ≤ | 0.24 |
比表面積(m2/g) | 125-210（400目的為125；800目的為175；1250目的為185；6000目的為210） |
表面改性處理 | 根據客戶的需要
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上海思峻研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。
GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。
GMD2000有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
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GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%。
產品相關關鍵字： 沉淀活性研磨分散機 二氧化硅研磨分散機 活性二氧化硅研磨機 疏水活性白炭黑研磨機 分體式研磨分散機
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